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標(biāo)題: 荷蘭又能賣(mài)光刻機(jī)給中國(guó)了，還不用美國(guó)許可！有這樣的好事？ [打印本頁(yè)]

作者: 張麻子 時(shí)間: 2020-10-29 14:15
標(biāo)題: 荷蘭又能賣(mài)光刻機(jī)給中國(guó)了，還不用美國(guó)許可！有這樣的好事？
本帖最后由張麻子于 2020-10-29 14:17 編輯

光刻機(jī)，在整個(gè)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設(shè)備，技術(shù)難度極高。

在全球光刻機(jī)市場(chǎng)，日本的尼康、佳能，和荷蘭的 ASML，就占據(jù)了市場(chǎng) 90% 以上份額。而最高級(jí)的 EUV（極紫外光）技術(shù)，則更是只有荷蘭的 ASML 一家可以掌握。

最近，一個(gè)難得的好消息是，光刻機(jī)可以進(jìn)口了，并且美國(guó)無(wú)需限制。

而這個(gè)底氣是半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機(jī)領(lǐng)頭企業(yè)荷蘭的阿斯麥爾(ASML)給中國(guó)的。

本月中旬，ASML 首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森（Roger Dassen），對(duì)向中國(guó)出口光刻機(jī)的問(wèn)題作出了表態(tài)。他表示：

ASML 可以從荷蘭向中國(guó)出口 DUV（深紫外）光刻機(jī)，無(wú)需美國(guó)許可。這無(wú)疑給了中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)新的希望。但別高興太早。

ASML 方面也提到：

如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國(guó)出口的，那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

此外，從 ASML 的表態(tài)中也可得知，除了允許進(jìn)口 DUV 光刻機(jī)外，并未提到更先進(jìn)的 EUV（極紫外）光刻機(jī)。

盡管如此，這對(duì)于中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)來(lái)說(shuō)都是一件極大的幸事了。

ASML 為什么不懼美國(guó)禁令？
ASML 為什么有底氣進(jìn)口 DUV 光刻機(jī)給中國(guó)？

Roger Dassen 解釋說(shuō)：

“如果要解釋一下美國(guó)的規(guī)定對(duì) ASML 有什么影響的話(huà)，對(duì)于的中國(guó)客戶(hù)，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口 DUV 光刻機(jī)，無(wú)需任何出口許可?！?br />

也就是說(shuō)，美國(guó)僅僅是限制了美國(guó)不能給中國(guó)出口芯片、光刻機(jī)等，但并沒(méi)有限制其他國(guó)家對(duì)中國(guó)進(jìn)口，荷蘭并不在美國(guó)的禁令范圍內(nèi)。

但如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國(guó)出口的，這就另當(dāng)別論了。

同時(shí)他也表示 ASML 將盡最大努力，盡可能為所有客戶(hù)繼續(xù)提供服務(wù)和支持。

值得注意的是，當(dāng)天也是 ASML 發(fā)布新一季度財(cái)報(bào)的日子，我們從其財(cái)報(bào)中也看到了 ASML 出口光刻機(jī)的一些原因。

ASML 第三季度財(cái)報(bào)顯示，ASML 當(dāng)季總共銷(xiāo)售 60 部光刻系統(tǒng)，凈銷(xiāo)售額為 40 億歐元，凈收入 11 億歐元，毛利率達(dá)到了 47.5%，營(yíng)收攀升至 39.58 億歐元，其中，中國(guó)占據(jù) 21% 的份額。

前九個(gè)月銷(xiāo)售業(yè)績(jī)高達(dá) 97.24 億歐元（約合人民幣770億元），同比大增近 25%。其中，來(lái)自高端 EUV 光刻機(jī)的收入占比達(dá)到了總收入的 66％。

此外，ASML 還十分看好中國(guó)市場(chǎng)。海關(guān)總署數(shù)據(jù)顯示，今年 1-8 月，我國(guó)累計(jì)進(jìn)口了 3334.6 億美元的集成電路，同比大增 22.5%。

據(jù)南方新聞網(wǎng)報(bào)道，在 9 月 17 日的中國(guó)集成電路制造年會(huì)上，ASML 全球副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波透露，截至當(dāng)前，中國(guó)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了 700 多臺(tái) ASML 光刻機(jī)的裝機(jī)，幾乎所有芯片生產(chǎn)商都購(gòu)買(mǎi)過(guò)該公司的服務(wù)。

中國(guó)對(duì)于 ASML 來(lái)說(shuō)實(shí)在是一個(gè)大市場(chǎng)。
而 ASML 也一直對(duì)中國(guó)市場(chǎng)有擴(kuò)張野心。

在第 23 屆中國(guó)集成電路制造年會(huì)(CICD 2020)暨廣東集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇上，ASML 全球副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波就表示：

ASML 在中國(guó)大陸成立第一個(gè)辦公室迄今已有 20 年，從第一臺(tái)光刻機(jī)開(kāi)始，就是中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的親歷者、見(jiàn)證者、和推動(dòng)者。未來(lái)，ASML 還將持續(xù)投入、擴(kuò)大布局、培養(yǎng)人才，攜手行業(yè)伙伴，和中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)共同發(fā)展。

此外，資料顯示，2000 年，ASML 在中國(guó)天津正式成立大陸地區(qū)的第一個(gè)辦公室，迄今為止在中國(guó)大陸12 個(gè)城市有辦事處或分支機(jī)構(gòu)，分別為天津、上海、北京、無(wú)錫、武漢、西安、大連、南京、廈門(mén)（晉江）、合肥、深圳、廣州。

可以說(shuō)從一線(xiàn)城市到二三線(xiàn)城市都有 ASML 的布局。在中國(guó)受美方的打壓下，ASML 卻在加速中國(guó)市場(chǎng)的布局。

這又是一個(gè)值得思考的問(wèn)題。

網(wǎng)友：進(jìn)口 DUV 光刻機(jī)沒(méi)用，真正卡脖子的是 EUV

聽(tīng)聞這一消息，網(wǎng)友也紛紛表態(tài)。

在他們看來(lái)，中國(guó)真正需要的是 EUV 光刻機(jī)，ASML 這一做法并不能解燃眉之急，當(dāng)務(wù)之急還是要自力更生。

為什么這么說(shuō)呢？

我們先來(lái)看下 DUV 和 EUV 之間的區(qū)別。

目前的光刻機(jī)主要分為 EUV 光刻機(jī)和 DUV 光刻機(jī)。

DUV 光刻機(jī)，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于 ASML 手中誕生，其波長(zhǎng)雖然有 193nm，但等效為134nm，經(jīng)過(guò)多重曝光后，液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到 7nm 工藝。但是，每多一次曝光都會(huì)使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

而 EUV 光刻機(jī)采用13.5nm波長(zhǎng)的光源，是突破 10nm 芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說(shuō)，就算DUV（深紫外線(xiàn)）光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒(méi)有 ASML 的 EUV 光刻機(jī)，芯片巨頭臺(tái)積電、三星、英特爾的 5nm 產(chǎn)線(xiàn)就無(wú)法投產(chǎn)。

EUV 的重要性可想而知。

事實(shí)上，早在今年 3 月，中芯國(guó)際就向 ASML 購(gòu)買(mǎi)了一臺(tái)大型光刻機(jī)，外界傳言為 EUV，但中芯國(guó)際也在此后證實(shí)并非外界傳言的極紫外光刻機(jī)。

這也進(jìn)一步證明了 EUV 的重要性。

國(guó)內(nèi)光刻機(jī)困境

那么，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)的發(fā)展現(xiàn)狀如何呢？

根據(jù)百度百科的解釋?zhuān)慌_(tái)光刻機(jī)由上萬(wàn)個(gè)部件組成，有人形容稱(chēng)這是一種集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機(jī)械、自動(dòng)化、軟件、圖像識(shí)別領(lǐng)域頂尖技術(shù)的產(chǎn)物。

而一臺(tái)光刻機(jī)的售價(jià)從數(shù)千萬(wàn)美元高至過(guò)億美元，可見(jiàn)光刻機(jī)的重要性。

在全球范圍內(nèi)，光刻機(jī)市場(chǎng)幾乎被 3 家廠(chǎng)商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在這 3 家中，ASML 又是當(dāng)之無(wú)愧的一哥。據(jù)中銀國(guó)際報(bào)告，阿斯麥全球市場(chǎng)市占率高達(dá) 89%，其余兩家的份額分別是 8% 和 3%，加起來(lái)僅有 11%。在 EUV 光刻機(jī)市場(chǎng)中，ASML 的市占率則是100%。

而中國(guó)對(duì)于光刻機(jī)的制造幾乎還在起步階段。

目前，中國(guó)芯片制造方面頂尖的中芯國(guó)際只有 28 納米的生產(chǎn)工藝，14 納米工藝才剛剛開(kāi)始量產(chǎn)，且中國(guó)芯片制造只能占到世界 7.3%的份額。

但近年來(lái)，國(guó)家加大了對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的投入。

2019 年 4 月，武漢光電國(guó)家研究中心甘棕松團(tuán)隊(duì)，采用二束激光，在自研的光刻膠上，突破光束衍射極限的限制，并使用遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)的辦法，光刻出最小 9nm 線(xiàn)寬的線(xiàn)段。

2020 年初，中科院對(duì)外宣稱(chēng)已經(jīng)攻克了 2nm 工藝的難題，相關(guān)研究成果已經(jīng)發(fā)布到國(guó)際微電子器件領(lǐng)域的期刊當(dāng)中。

5 月 19 日，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司稱(chēng)，其自研的高亮度 LED 步進(jìn)投影光刻機(jī)，是中國(guó)首臺(tái)面向 6 英寸以下中小基底先進(jìn)光刻應(yīng)用領(lǐng)域的光刻機(jī)產(chǎn)品，已從 1200 多個(gè)申報(bào)項(xiàng)目中成功突圍，入選“上海設(shè)計(jì) 100+”。

10 月15 日，南京集成電路產(chǎn)業(yè)服務(wù)中心副總經(jīng)理呂會(huì)軍向媒體證實(shí)中國(guó)將建立一所南京集成電路大學(xué)，專(zhuān)門(mén)培養(yǎng)實(shí)踐型芯片研發(fā)人才，以加速芯片的國(guó)產(chǎn)化。

誠(chéng)然，中國(guó)在光刻機(jī)這條路上還有很長(zhǎng)的路要走，但在經(jīng)歷了卡脖子的困境后，相信中國(guó)企業(yè)已經(jīng)意識(shí)到自主研發(fā)的重要性。而美國(guó)長(zhǎng)期的封鎖和打壓只會(huì)激發(fā)中國(guó)放棄僥幸，集中力量，讓核心科技硬起來(lái)。

同時(shí)，對(duì)于國(guó)內(nèi)的光刻企業(yè)還要給予耐心，不能急功近利。（轉(zhuǎn)）

作者: 路園山 時(shí)間: 2020-10-29 15:04
本帖最后由路園山于 2020-10-29 15:06 編輯

標(biāo)題黨。。。。。。。

作者: 簡(jiǎn)莫 時(shí)間: 2020-10-29 16:21
還是得自給自足才行

作者: 遠(yuǎn)祥 時(shí)間: 2020-10-31 19:30
這種僅提供樣機(jī)，沒(méi)有制造產(chǎn)線(xiàn)和設(shè)備，怎做的出來(lái)光科機(jī)呢。。。

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