俄羅斯要投資5000多萬研發(fā)全新的光刻機(jī)

aiyusheng

【投資5000多萬 俄羅斯計(jì)劃研發(fā)全新EUV光刻機(jī)：ASML都沒有】

光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機(jī)全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計(jì)劃開發(fā)全新的EUV光刻機(jī)，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。

光刻機(jī)的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機(jī)分辨率的主要因素就是三點(diǎn)，分別是常數(shù)K、光源波長(zhǎng)及物鏡的數(shù)值孔徑，波長(zhǎng)越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)使用的是極紫外光EUV，波長(zhǎng)13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝。

俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金（約合5100萬元人民幣），也要開發(fā)制造芯片的光刻機(jī)，而且號(hào)稱要達(dá)到EUV級(jí)別，但技術(shù)原理完全不同，他們研發(fā)的是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機(jī)。

X射線光刻機(jī)使用的是X射線，波長(zhǎng)介于0.01nm到10nm之間，比EUV極紫外光還要短，因此光刻分辨率要高很多。

此外，X射線光刻機(jī)相比現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)還有一個(gè)優(yōu)勢(shì)，那就是不需要光掩模版，可以直寫光刻，這也節(jié)省了一大筆費(fèi)用。

正因?yàn)橛羞@么兩個(gè)特點(diǎn)，俄羅斯要研發(fā)的X射線光刻機(jī)優(yōu)勢(shì)很大，甚至被當(dāng)?shù)氐拿襟w宣傳為全球都沒有的光刻機(jī)，ASML也做不到。

從相關(guān)資料來看，全球確實(shí)沒有能達(dá)到規(guī)模量產(chǎn)的X射線光刻機(jī)，不過這種技術(shù)并不是現(xiàn)在才有，不僅美國(guó)、歐洲研究過，國(guó)內(nèi)也有科研機(jī)構(gòu)做了X射線光刻機(jī)，只是生產(chǎn)芯片的效率跟ASML的光刻機(jī)不能比的，只適合特定場(chǎng)景。

不過俄羅斯在X射線及等離子之類的技術(shù)上有深厚的基礎(chǔ)，倒是可以期待下他們?cè)谛滦凸饪虣C(jī)上能走多遠(yuǎn)。

sgxap666

老毛子也那么會(huì)宣傳了

南天橫翼

五千萬人民幣？

大白小白

大毛V5！不管咋樣，氣勢(shì)要足，哪怕是聽一聲水響，也是值得的！

13989291710

大毛V5。。。

老鷹

南天橫翼 發(fā)表于 2022-4-2 10:09
五千萬人民幣？

這點(diǎn)錢有些中國(guó)家庭都能拿出來，如果投入這么少就能搞出光刻機(jī)，那真是牛了。

遠(yuǎn)祥

這個(gè)研究可以的！